專注高端精密劃片機(jī)
研發(fā)、生產(chǎn)、咨詢、銷售
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專注高端精密劃片機(jī)
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氧化 氧化過程的作用是在晶圓表面形成保護(hù)膜。它可以保護(hù)晶圓不受化學(xué)雜質(zhì)影響、避免漏電流進(jìn)入電路、預(yù)防離子植入過程中的擴(kuò)散以及防止晶圓在刻蝕時(shí)滑脫。 氧化過程的第一步是去除雜質(zhì)和污染物，需要通過四步去除有機(jī)物、金屬等雜質(zhì)及蒸發(fā)殘留的水分。清潔完成后就可以將晶圓置于800至1200攝氏度的高溫環(huán)境下，通過氧氣或蒸氣在晶圓表面的流動(dòng)形成二氧化硅（即“氧化物”）層。氧氣擴(kuò)散通過氧化層與硅反應(yīng)形成不同厚度的氧化...
一、晶圓加工 所有半導(dǎo)體工藝都始于一粒沙子！因?yàn)樯匙铀墓枋巧a(chǎn)晶圓所需要的原材料。晶圓是將硅(Si)或砷化鎵(GaAs)制成的單晶柱體切割形成的圓薄片。要提取高純度的硅材料需要用到硅砂，一種二氧化硅含量高達(dá)95%的特殊材料，也是制作晶圓的主要原材料。晶圓加工就是制作獲取上述晶圓的過程。1、鑄錠 首先需將沙子加熱，分離其中的一氧化碳和硅，并不斷重復(fù)該過程直至獲得超高純度的電子級(jí)硅(EG-Si)。高純硅熔化成...
鉭酸鋰是重要的多功能晶體材料，具有壓電、介電、熱電、電光效應(yīng)、非線性光學(xué)效應(yīng)和聲光效應(yīng)等重要特性。鉭酸鋰晶圓的主要原料是高純度氧化鉭和碳酸鋰，它們是制作微波聲學(xué)器件的良好材料。鉭酸鋰晶圓，鉭酸鋰的直徑為100±0.2mm，厚度為0.2～0.25mm 。應(yīng)用：拋光LT芯片因其良好的機(jī)電耦合，廣泛用于制造諧振器、濾波器、傳感器等電子通信器件，尤其是高頻表面波器件，溫度系數(shù)等綜合性能，廣泛應(yīng)用于手機(jī)、對講機(jī)、衛(wèi)星通信、航...
晶圓劃片切割中，總會(huì)遇到各種情況，而最常見的就是工件的崩邊問題，崩邊包括：正崩，背崩，掉角及裂痕等。而有很多種不同因素都會(huì)導(dǎo)致崩邊的產(chǎn)生，比如工件表面情況、粘膜情況、冷卻水、刀片等。
公司創(chuàng)辦至今，一直將自主創(chuàng)新放在重要位置，并高度重視研發(fā)工作。2018年，國內(nèi)外主流6英寸劃片機(jī)一直采用同步帶、渦輪蝸桿等機(jī)械輔助傳動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)方案。經(jīng)過數(shù)月的調(diào)查和不斷的試驗(yàn)，通過大量的數(shù)據(jù)積累和不斷的設(shè)計(jì)改進(jìn)，博捷芯團(tuán)隊(duì)成功地攻克了直驅(qū)電機(jī)轉(zhuǎn)角結(jié)構(gòu)方案，使轉(zhuǎn)角定位精度及穩(wěn)定性大幅度提高，一舉達(dá)到國際先進(jìn)水平。在以公司精密劃片機(jī)型號(hào)LX-6366為代表（兼容6?12寸晶圓，雙頭切割，自動(dòng)修復(fù)法蘭，CCD雙鏡頭，重復(fù)精...
博捷芯精密劃片機(jī)設(shè)備有多種類型：LX3252 6英寸精密劃片機(jī)、LX3352 12英寸精密劃片機(jī)、LX3356 8-12英寸兼容精密劃片機(jī)、LX6366全自動(dòng)雙軸劃片機(jī)、LX6636全自動(dòng)單軸劃片機(jī)。晶圓劃片機(jī)切割應(yīng)用行業(yè)主要用于半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、miniLED、太陽能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、 氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮酸鋰、藍(lán)寶石和玻璃等材料。
LX3352系列精密切割機(jī)滿足各種劃切需求可用于加工最大邊長為300 mm的方形工作物（特殊選配）。該設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)配置了輸出功率為1.8 kW的主軸，還將高扭矩主軸（2.2 kW）作為特殊選配供用戶選擇，使用2.2 kW主軸，可裝配58mm或定制切割刀片，旋轉(zhuǎn)軸采用DD馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，采用進(jìn)口超高精密滾柱型導(dǎo)軌和研磨級(jí)絲桿，雙鏡頭自動(dòng)影像識(shí)別系統(tǒng)，能夠?qū)杌螂y加工材料進(jìn)行切割加工。另外，作為特殊選配，還增加了適用于多工作物的對準(zhǔn)功能。提...
精密劃片機(jī)是一種高精密設(shè)備，精度的穩(wěn)定性、使用的安全性及可靠性都與工作的環(huán)境、維護(hù)保養(yǎng)息息相關(guān)。1 、環(huán)境與外圍要求劃片機(jī)必須安裝在無振動(dòng)源，室內(nèi)溫度為 20 、25 攝氏度的凈化間內(nèi)，并配有氣源、水源、電源、排污口、抽霧裝置等。氣源要求是經(jīng)過過濾、冷凝、卜燥潔凈的壓縮空氣，壓力不低于 0 . 5 入 IPa ，過濾精度大于 0 . 01 " m ，露點(diǎn)一 15℃ 、除去油分 99 . 5 ％。主軸冷卻水建議用去離子水，壓力不低于 0 ....
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